2025-11-05 13:42:03 [编辑：Akwan]
近日，瑞士联邦理工学院苏黎世分校的研究团队在学术期刊《Nature》上发表最新研究成果，其成功开发出一种可大规模制备的纳米级OLED制造技术，有望推动超分辨成像、片上光源及超宽带芯粒通信等前沿应用的发展。
图片来源：Nature
研究团队使用了一种名为自对准纳米模板光刻（nanostencil lithography）的方法，能够大规模生产纳米级OLED。通过这种工艺，研究人员成功地制造出了像素密度高达 100,000 ppi，像素大小仅100nm的OLED。与传统的光刻技术不同，这种方法不需要使用光刻胶和复杂的光刻过程，制程更加简单、高效，并且大大降低了生产成本。
使用该技术生产的OLED表面上拥有超过100万像素，并且在外量子效率方面达到了 13.1%。此外，研究人员还开发出了一种电致发光超表面，通过这种表面上的“超原子”（meta-atoms），可以精确控制发光的方向和偏振特性，从而实现对光发射的精确调节。这一特性为开发新型光学器件提供了新的可能，特别是在光通信和显示技术方面。
据悉，与传统的无机LED相比，有机材料的一个突出优点是它们能够在分子级别上发光，这使得OLED在微缩化方面具有天然优势。虽然有机OLED在大屏显示器中已经得到了广泛应用，但小尺寸OLED的制造一直面临技术难题，因为有机材料与传统的微纳加工技术不兼容。传统OLED制造中，通常需要金属掩膜进行蒸镀，但这种方法无法生产出精细的纳米级图案。
而团队新研发的技术通过直接在有机材料上进行纳米级图案化，成功解决了这个问题。自对准纳米模板光刻技术不仅可以制造出精确的OLED像素，还能够大幅提高生产效率，减少每个设备的制造过程时间，并且能够重复使用纳米模板，进一步降低成本。
研究团队表示，该技术的成功不仅为OLED技术的微型化开辟了新的道路，还为未来的高分辨率显示、光通信、激光光源和集成光子学等领域提供了一个可行的解决方案。这种创新方法为纳米级OLED的规模化生产奠定了基础，也为突破光学衍射极限、制造更加先进的光电子器件提供了新的机遇。（LEDinside整理）
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