8月11日,成都拓维高科光电科技有限公司自主研发的8.6代线金属掩膜版(CMM,Common Metal Mask)首件产品产出并交付行业头部客户。
资料显示,拓维高科专注于OLED Mask及零部件的精密再生、CMM研发和制造、精细金属掩模版(Fine Metal Mask,FMM)研发和制造等业务,拥有成都和滁州两处生产基地,客户包括京东方、天马微电子、维信诺、TCL华星光电等面板厂商。
据悉,金属掩膜版是OLED蒸镀工艺中的关键材料,决定了OLED屏幕生产的良率和分辨率。其主要作用是在OLED生产过程中沉积RGB有机物质并形成像素,在需要的地方准确和精细地沉积有机物质。
目前,OLED用金属掩膜版主要分为CMM和FMM两种。CMM开孔大、精度低,一般用于蒸镀整面公共膜层或金属电极、传输层、导电层;FMM孔小、精度高,用于OLED发光材料沉积。
在FMM领域,拓维高科相关业务由其子公司拓维光电材料(滁州)有限公司(下文简称“拓维光电”)专项负责。拓维光电旗下项目总投资5.5亿元,主要产品OLED蒸镀用FMM,预计在今年实现量产。
国产掩膜版加速发展
随着国内G8.6代OLED面板产线建设持续推进,与之配套的高世代掩膜版项目也在加速发展。
据集邦Display不完全统计,步入2025年,国内多个掩膜版项目取得新进展,项目累计投资超59亿元。
其中,全洋光电G8.6金属掩膜版项目于今年7月完成了主厂房根立柱吊装,项目从地下基础转向地上主体结构建设。项目计划分为两期建设,建立两条生产线,一期计划于2026年6月建设完成,一期达产后预计年产值3亿元,项目整体达产后预计年产值6亿元;
4月,高光半导体第8.6代AMOLED金属掩膜版产线“首台”核心设备完成搬入。该项目投资总额约9亿元,项目一期达产后预计年产通用金属掩膜版780张及FMM 10万条;
同在4月,寰采星拟投资超10亿元在浙江建设G8.6代FMM,以满足未来几年国内面板企业高世代OLED产能对FMM的需求。
需要注意的是,除了金属掩膜版外,OLED面板制造还需要用到光掩膜版。在制造流程中,光掩膜版主要应用于前段Array制程,其核心作用是通过曝光将设计好的电路图形精确转印到LTPS(低温多晶硅)或Oxide(氧化物)背板上,为后续TFT驱动电路的形成提供图形基础,其精度直接决定了显示驱动电路的性能与良率。
在国内金属掩膜版快速发展的同时,高世代OLED用光掩膜版项目也在稳步推进。
7月初,路维光电高世代高精度光掩膜项目奠基。项目总投资20亿元,将建设11条高端掩膜版产线。一期将率先建设5条G8.6及以下AMOLED高精度光掩膜版产线,达产后年产能约1500片;
4月,佛山清溢光电高精度掩膜版生产基地建设项目搬入首台曝光机。该项目分三期进行建设,投资总额为20亿元,项目一期计划投资8亿元,主要生产8.6代及以下高精度掩膜版。
结语
作为OLED蒸镀工艺的核心材料,高世代金属掩膜版的国产化,直接响应了 G8.6 代OLED面板产线对本土供应链的迫切需求,有助于降低产线对进口材料的依赖,提升整体生产环节的协同效率。
随着更多高世代项目的落地和量产,国内G8.6代OLED产线的材料供应链稳定性将进一步增强,OLED面板生产成本也有望将进一步降低。(集邦Display Morty)