VEECO 推出新机型K465i 可达成最低的设备维护运转成本

Veeco推出TurboDisc® K465i™ ,一款用于生产高亮度LED(HB LED)的氮化镓(GaN) 金属有机化学气相沉淀(MOCVD)设备,日前经过LED产业内的Veeco 用户试用后, K465i 很快获得量产认可,该公司已经接到了亚太区域多个LED 用户的订单。

Veeco指出,这次的新产品TurboDisc K465i 以Veeco 久经考验的K 家族平台为基础,结合业界最高生产效率,在5nm bin误差范围内,同级最优LED的良品率接近90% ,大幅提高中bin率。 TurboDisc K465i 采用完全自动化运作,例行维护后在很短的时间内即可继续生产动作,增加生产效率。在同类产品竞争中,不仅生产效率最高,还能节约大量成本。

TurboDisc K465i 设计:均匀性和可重复性

TurboDisc K465i GaN MOCVD 系统装置的核心,是Veeco正在申请专利的Uniform FlowFlange 技术。它的设计是用来产生能均匀地流过LED晶圆的烷基和氢化物气体的均匀气流型态,该设备打造出来的LED晶粒可获得卓越的均匀性和可重复性,K465 i也采用了Veeco 最先进的反应炉技术。 FlowFlange 的简化设计提供了快速制程优化的轻松除错功能,适用晶圆大小达8 英吋,同时该设备维护后的快速复产能力也保证了LED产业界最高的生产效率。

欢迎并进一步了解LED晶粒量产资讯与K465i的详情,请浏览www.veeco.com/mocvd

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