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Veeco：LUMINA+ MOCVD设备获富采商业验收

2026-06-12 11:24:20 [编辑：Akwan]
6月9日，化合物半导体工艺设备企业Veeco宣布，其新一代LUMINA+金属有机化学气相沉积（MOCVD）设备已获得富采控股的商业验收与生产资格认证，以满足砷化磷（As/P）大规模量产需求。
 
mocvd设备 富采
 
据Veeco官方披露，富采自2025年底起便在中国台湾地区工厂启动LUMINA+系统的评估验证工作，整个认证周期进展迅速，展现出该设备在工艺稳定性与产能扩展性方面的突出优势。
 
目前，该系统已正式通过生产资格认证，将投入富采到高端光电器件的大规模量产线。据悉，LUMINA+配备了业界最大容量的反应腔体，结合高吞吐量的设计，能够在满足客户严苛性能指标的同时，显著提升工艺效率与生产成本效益。
 
Veeco MOCVD产品线管理副总裁Anil Vijayendran对此表示，LUMINA+被视为快速增长的砷化磷市场的变革性产品，LUMINA+系统所兼具的规模与精度，契合化合物半导体产业对高性能、低成本光电器件规模化制造的路线图需求，将在未来助力消费电子、汽车、光通信及生物传感等领域的创新。获得富采的验证，不仅确立了Veeco在先进光电器件领域的领先地位，也体现了公司将成熟的TurboDisc技术与突破性生产力相结合的战略方向。
 
据悉，TurboDisc是Veeco Instruments公司旗下MOCVD设备的核心技术平台。从技术特性来看，TurboDisc平台以高产能、高设备稼动率和低维护需求见长。
 
其反应腔设计能够在例行维护后迅速恢复生产，大幅压缩停机时间。与此同时，该技术通常与Veeco自研的Uniform FlowFlange气流均布技术协同工作，可在晶圆表面形成高度均匀的气流场，从而保证外延薄膜的厚度均匀性与工艺重复性达到优异水准，并有效控制颗粒污染。
 
在材料覆盖范围上，TurboDisc平台展现出广泛的适应性。TurboDisc既支持氮化镓基材料体系，服务于蓝绿光LED、功率器件以及Micro LED等应用；也兼容砷化磷基材料体系，适用于红光LED、激光器、VCSEL及太阳能电池等光电器件的外延生长。这种跨材料平台的能力，使其成为化合物半导体制造中兼具通用性与专业性的关键装备技术。
 
因此，TurboDisc技术贯穿了Veeco所有MOCVD产品线的演进历程，从早期的K300、K465系列，到当前面向砷化磷市场的LUMINA+系统，均建立在这一底层架构之上。（LEDinside整理）
 
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